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解析等離子凈化設(shè)備的凈化原理

更新時(shí)間:2016-05-30      點(diǎn)擊次數(shù):3863
   等離子凈化設(shè)備采用了*的吸附-分解-碳化 離心式抽風(fēng)安裝-東莞天潔工藝技術(shù)設(shè)計(jì),采用標(biāo)準(zhǔn)模塊設(shè)計(jì)等優(yōu)點(diǎn),是一種干法處理有機(jī)廢氣的凈化設(shè)備。它改變了使用活性碳材料的工藝技術(shù),無(wú)需再生處理原料,無(wú)需專人負(fù)責(zé),不產(chǎn)生二次污染,更換及維護(hù)保養(yǎng)方便。
  光解等離子凈化原理分為三個(gè)步驟,*是均流預(yù)處理過(guò)程;第二是光解凈化反應(yīng)過(guò)程;第三是等離子體深度反應(yīng)過(guò)程。
  *個(gè)均流預(yù)處理過(guò)程中,使高流速?gòu)U氣經(jīng)過(guò)均流板后,可均勻分布在凈化設(shè)備內(nèi),廢氣能夠得到充分凈化,同時(shí)過(guò)濾棉可將前端未處理*的漆霧及水霧吸附,以保證后端凈化處理效率zui大化。
  第二個(gè)過(guò)程為光解凈化反應(yīng)過(guò)程。光解機(jī)理包含兩個(gè)過(guò)程,一是產(chǎn)生高能離子群體的過(guò)程中,一定數(shù)量的有害氣體分子受到高能作用,本身分解成單質(zhì)或轉(zhuǎn)化為無(wú)害物質(zhì)。二是含有大量高能粒子和高活性的自由基的離子群體,與大分子氣體(如H2S,甲苯等)作用,打開了其分子內(nèi)部的化學(xué)健,轉(zhuǎn)化為無(wú)害的小分子物質(zhì)。催化劑(二氧化鈦)在受到紫外線光照射時(shí)生成化學(xué)活潑性很強(qiáng)的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基,攻擊有機(jī)物,達(dá)到降解有機(jī)物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料,在*分解有機(jī)污染物和殺滅菌的同時(shí),自身不分解、不溶出,光催化作用持久,并具有持久的殺菌、降解污染物效果。
  第三個(gè)過(guò)程為等離子體深度反應(yīng)區(qū)域。特別針對(duì)前端難處理的頑固廢氣成分,進(jìn)行深度二次反應(yīng)。等離子體反應(yīng)機(jī)理是,等離子體以每秒80萬(wàn)次至500萬(wàn)次的速度反復(fù)轟擊異味氣體的分子,去激活、電離、裂解廢氣中的各種成分,從而發(fā)生氧化等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng),經(jīng)過(guò)多級(jí)凈化,將有害物轉(zhuǎn)化為潔凈的空氣釋放到大自然。
  該套凈化系統(tǒng)將等離子體和催化氧化劑兩項(xiàng)新技術(shù)有機(jī)結(jié)合,技術(shù)互補(bǔ),大大提高了凈化效果。
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