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UV光催化設(shè)備工藝原理

更新時(shí)間:2021-03-09      點(diǎn)擊次數(shù):2322

工藝原理:
通過(guò)采用紫外線,破壞有機(jī)廢氣分子的化學(xué)鍵,使之裂解形成游離狀態(tài)的原子或基團(tuán)(C*、H*、O*等);同時(shí)通過(guò)裂解混合空氣中的氧氣,使之形成游離的氧原子并結(jié)合生成臭氧:UV+O2→O-+O*(活性氧)  O+O2→O3(臭氧)。具有強(qiáng)氧化性的臭氧(O3)與有機(jī)廢氣分子被裂解生成的原子發(fā)生氧化反應(yīng),形成H2O和CO2。

凈化效果與廢氣分子的鍵能、廢氣濃度以及含氧量有關(guān)。整個(gè)凈化過(guò)程無(wú)需添加任何化學(xué)助劑或者特殊限制條件。從實(shí)際情況來(lái)看,UV燈波長(zhǎng)的選擇以及廢氣在設(shè)備內(nèi)的合理停留時(shí)間是影響UV光氧化設(shè)備去除效率的主要影響因素。 

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